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2.下列过程对应的离子方程式正确的是
单选题
2.下列过程对应的离子方程式正确的是
A.
用氢氟酸刻蚀玻璃: SiO
3
2-
+4 ~F
-
+6 H
+
=SiF
4
↑+3 H
2
O
B.
用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板: 2 Fe
3+
+3 Cu=3 Cu
2+
+2 Fe
C.
用硫代硫酸钠溶液脱氯: S
2
O
3
2-
+2 Cl
2
+3 H
2
O=2 SO
3
2-
+4 Cl
-
+6 H
+
D.
用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙: CaSO
4
+CO
3
2-
=CaCO
3
+SO
4
2-
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没有了
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[问答题] 请简述努力的必要性
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2024
全国甲卷
化学
-
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